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      1. 工业纯水设备

        武汉纯水设备有限公司专业生产销售纯水设备,RO反渗透纯水设备,实验室纯水设备,医用超纯水设备,纯化水设备,工业高纯水设备,纯水机,详询:18014005960

        工业纯水设备

        水处理设备

        武汉纯水设备有限公司专业生产销售纯水设备,RO反渗透纯水设备,实验室纯水设备,医用超纯水设备,纯化水设备,工业高纯水设备,纯水机,UF超滤,水处理设备,医药用水,食品饮料用水,电子行业等纯水,超纯水设备等。可根据客户要求制作各种产量的纯水设备,超纯水设备及软水处理设备等。电话:18014005960

        水处理设备

        武汉纯水设备

        武汉皙全纯水设备公司是武汉纯水设备,工业纯水处理设备,反渗透设备去离子水设备, GMP纯化水机设备的生产安装服务厂家.定做各种武汉纯水处理设备,全国服务电话:18014005960

        武汉纯水设备

        实验室纯水设备

        武汉纯水设备有限公司专业生产销售纯水设备,RO反渗透纯水设备,实验室纯水设备,医用超纯水设备,纯化水设备,工业高纯水设备,纯水机,UF超滤,水处理设备,医药用水,食品饮料用水,电子行业等纯水,超纯水设备等。可根据客户要求制作各种产量的纯水设备,超纯水设备及软水处理设备等。电话:18014005960

        实验室纯水设备

        产品展示

        实验室化验纯水设备

        产品编号:202022611149

        产品描述:武汉皙全纯水设备公司是武汉纯水设备,工业纯水处理设备,反渗透设备及去离子水设备, GMP纯化水机设备的生产安装服务厂家.定做各种武汉纯水处理设备,全国服务电话:18014005960

        产品介绍:

        水设备www.craigencer.com】实验室超纯水设备是实验室中用于制出实验所用超纯水的设备。

        由于不同的实验对水质要求不同,所以实验室超纯水设备也应该具备产出多种不同规格的纯水或超纯水纯水设备

        纯水制备系统以自来水作为进水,制备足量符合实验室所需特定水质的纯水,是实验室整体纯水系统的起点。实验室每天纯水的用量有可能从几升到几千升不等。在设计之处首先应该考虑的是:确定每个用户和每台仪器每天的用水量和所需纯水的水质,以及用水规律。而后纯水设计部门便可以据此计算出整个实验室每天总的用水量以及高峰用水量。

        超纯水设备适用于电子行业生产如单晶硅、半导体、集成电路块、IC芯片封装、显像管、玻壳、液晶显示器、印刷电路版、光学、光电、热电厂、冶金、化工、轻工、汽车制造、制药、医疗卫生等制造工业用纯水制造。

        医药行业的大输液、医药制剂、检验分析、血液透析、制药、制剂工艺用水制造。

        还可用于涂装行业如电镀、电池生产、电泳漆生产线;汽车、电器、建材产品表面清洗、涂装;玻璃、塑料表面镀膜等。化工行业用水制造如化学制药、纺织印染、精细化工、化妆品、墨盒、日化产品等。

        实验超纯水设备适用于工厂、大学及公司的生产实验室、化学实验室、物理实验室、中试车间、医院生化室大部分实验室等。

        实验室超纯水设备的两种经典工艺流程:

        1、预处理系统反渗透系统中间水箱粗混合床精混合床纯水箱纯水泵紫外线杀菌器抛光混床精密过滤器用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

        2、预处理反渗透中间水箱水泵→EDI装置纯化水箱纯水泵紫外线杀菌器抛光混床→0.20.5μm精密过滤器用水对象(≥18MΩ.CM)(最新工艺)

         

        水质参数

         

        Basic

        Mid

        High

        超纯水电阻率

        18.25MΩNaN

        18.25MΩNaN

        18.25MΩNaN

        纯水电导率

        1-5μs/cm

        1-5μs/cm

        1-5μs/cm

        总有机碳(TOC)(DP——RO)

        <10ppb

        <5ppb

        <1-3ppb

        细菌

        <1CFU/ml

        <1CFU/ml

        <0.1CFU/ml

        细菌内毒素

        -

        -

        <0.001EU/ml

        颗粒物质(0.2μm

        <1/ml

        <1/ml

        <1/ml

        无机物离子去除率

        99.5%

        99.5%

        99.5%

        重金属离子

        0.1ppb

        0.1ppb

        0.1ppb

        硅去除率

        >99%

        >99%

        >99%

         

         


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